[发明专利]使用第一最小值底部抗反射涂层组合物制备图像的方法无效
| 申请号： | 200710101248.7 | 申请日： | 2003-01-03 |
| 公开（公告）号： | CN101034259A | 公开（公告）日： | 2007-09-12 |
| 发明（设计）人： | M·O·尼瑟尔;J·E·奥伯兰德;M·A·图卡伊;R·萨卡穆里;李丁术季 | 申请（专利权）人： | AZ电子材料日本株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/09 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 刘明海 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种在衬底上形成图像的方法，其包括以下步骤：(a)在衬底上涂覆第一层辐射敏感性抗反射组合物；(b)将第二层光刻胶组合物涂覆到第一层抗反射组合物上；(c)选择性地将得自步骤(b)的涂覆衬底在光化辐射下曝光；和(d)将得自步骤(c)的经曝光的涂覆衬底显影以形成图像；其中，将光刻胶组合物和抗反射组合物都在步骤(c)中曝光；使用单一的显影剂在步骤(d)中将两者都显影；其中步骤(a)的抗反射组合物是第一最小值底部抗反射涂层(B.A.R.C.)组合物，具有的固含量最高至约8％固体分，并且涂覆衬底的最大涂层厚度为[λ/2n]，其中λ为步骤(c)中光化辐射的波长，且n为B.A.R.C.组合物的折射率。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 第一 最小值 底部 反射 涂层 组合 制备 图像 方法 | ||
【主权项】：
1.包含聚合物的辐射敏感性可光成像抗反射组合物，其能够在含水碱性显影剂中显影，其中该抗反射涂层组合物能够在光刻胶层下方形成具有最大涂层厚度为λ/2n且最小涂层厚度大于0的抗反射层，其中λ是曝光波长，并且n是抗反射涂层组合物的折射率。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于AZ电子材料日本株式会社，未经AZ电子材料日本株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200710101248.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
