[发明专利]使用层叠掩模制造用于垂直写极的环绕屏蔽件的方法无效
| 申请号： | 200710101866.1 | 申请日： | 2007-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN101064112A | 公开（公告）日： | 2007-10-31 |
| 发明（设计）人： | 阿伦·彭特克;郑义 | 申请（专利权）人： | 日立环球储存科技荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G11B5/39 | 分类号： | G11B5/39;G11B5/31;G11B5/187 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张波 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明提供一种构造用于在垂直磁记录中使用的磁写头的方法，该写头具有写极，该写极具有环绕该写极的尾屏蔽件。该方法允许尾屏蔽件构造有很好控制的尾间隙厚度且还允许写极构造有良好控制的道宽和直的、平的尾边缘。该方法包括沉积磁写极在衬底上且形成研磨结构在该写极层上。该研磨结构包括可以通过反应离子蚀刻被去除的终点检测层。进行离子研磨以通过去除未被该掩模层覆盖的磁写极材料来形成写极。非磁材料例如氧化铝的层被沉积且被离子研磨从而暴露终点检测层。然后该终点检测层通过反应离子蚀刻被去除且沉积磁的环绕的尾屏蔽件。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 层叠 制造 用于 垂直 环绕 屏蔽 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制造用于垂直磁记录的写头的方法，该方法包括：提供衬底；沉积磁写极材料；在该磁写极材料之上形成掩模结构，该掩模结构包括硬掩模层和终点检测层；进行第一离子研磨以形成写极；沉积非磁材料；进行第二离子研磨以去除部分所述非磁材料层且当达到所述终点检测层时终止该离子研磨；进行反应离子蚀刻RIE从而去除所述终点检测层；以及沉积磁材料。
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