[发明专利]光刻设备和装置制造方法有效
| 申请号： | 200710102532.6 | 申请日： | 2007-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN101075097A | 公开（公告）日： | 2007-11-21 |
| 发明（设计）人： | E·R·卢普斯特拉;J·J·奥坦斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘杰;王小衡 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种物品支架，其构造成支持针对光刻工艺目的的物品。该物品支架包括布置成引导该物品支架内的热稳定介质从而为该物品提供热稳定的通道配置，其中该通道配置包括输入通道结构和输出通道结构，该输入和输出通道结构布置成巢状配置并通过设置于该物品支架表面上或附近的精细栅格结构而相互连接。本发明还公开了一种结合了该物品支架的光刻设备和装置制造。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 装置 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种物品支架，其构造成支持针对光刻工艺目的的物品，所述物品支架包括布置成引导所述物品支架内的热稳定介质从而为所述物品提供热稳定的通道配置，其中所述通道配置包括输入通道结构和输出通道结构，所述输入和输出通道结构布置成巢状配置并通过设置于所述物品支架表面上或附近的精细栅格结构而相互连接。
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