[发明专利]清洗方法、器件制造方法、清洗组件和装置、光刻装置无效
| 申请号： | 200710102969.X | 申请日： | 2007-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN101063830A | 公开（公告）日： | 2007-10-31 |
| 发明（设计）人： | M·辛格 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 曾祥夌;刘华联 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明的一个实施例提供了一种用于清洗表面的方法。所述方法包括，利用污染物释放装置将污染物从待清洗表面上至少部分地释放，以及利用污染物去除装置来捕获已被至少部分地释放的污染物，所述污染物去除装置产生至少一个用于收集已被至少部分地释放的污染物的光阱。本发明的实施例还提供了器件制造方法、用于清洗光学元件表面的方法、清洗组件、清洗装置以及光刻装置。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 方法 器件 制造 组件 装置 光刻 | ||
【主权项】：
1.一种用于清洗表面的方法，所述方法包括：利用污染物释放装置将污染物从所述表面上至少部分地释放；以及利用污染物去除装置来捕获已被至少部分地释放的所述污染物，所述污染物去除装置产生至少一个用于收集已被至少部分地释放的污染物的光阱。
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