[发明专利]位移测量系统、光刻设备、位移测量方法和装置制造方法有效
| 申请号： | 200710102990.X | 申请日： | 2007-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN101071276A | 公开（公告）日： | 2007-11-14 |
| 发明（设计）人： | B·A·J·卢蒂克休斯;H·H·M·科克斯;E·R·卢普斯特拉;E·A·F·范德帕施;H·K·范德舒特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 曾祥夌;王小衡 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 提供了一种具体用于测量光刻设备中衬底台相对于基准标架的位移的位移测量系统。该位移测量系统包括安装到衬底台的多个位移传感器以及与每个位移传感器相关联的、安装到基准标架上的目标。 | ||
| 搜索关键词： | 位移 测量 系统 光刻 设备 测量方法 装置 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种配置为测量部件相对于基准部件的位移的位移测量系统，包括：第一、第二、第三和第四目标，每个目标被安装到所述基准部件上并且被布置使得每个目标的目标表面基本上平行于基准面；以及第一、第二、第三和第四位移传感器，每个位移传感器被布置成测量所述部件的相应部分相对于相应目标的目标表面的位移；其中所述第一和第三位移传感器被配置为分别测量沿基本上平行于位于所述基准面内的第一方向的方向的所述部件的第一和第三部分相对于所述第一和第三目标的目标表面的位移；以及所述第二和第四位移传感器被配置为分别测量沿基本上平行于位于所述基准面内的第二方向并且基本上垂直于所述第一方向的方向的所述部件的第二和第四部分相对于所述第二和第四目标的目标表面的位移。
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