[发明专利]用以对一闪速存储元件实施逐位擦除的装置与方法有效

专利信息
申请号: 200710103411.3 申请日: 2007-05-08
公开(公告)号: CN101071644A 公开(公告)日: 2007-11-14
发明(设计)人: 吕函庭;赖二琨 申请(专利权)人: 旺宏电子股份有限公司
主分类号: G11C16/14 分类号: G11C16/14
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 韩宏
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种与非门存储元件利用绝缘层上覆硅技术所制造。具体地,可使用薄膜晶体管技术以制造此与非门闪速存储元件。在绝缘层上覆硅以及薄膜晶体管结构中,此存储器的本体(或阱)是被隔离的。此结构可用以允许对个别存储单元进行逐位编程及擦除动作,并可严格控制临界电压,进而允许多级存储单元操作。
搜索关键词: 用以 一闪 存储 元件 实施 擦除 装置 方法
【主权项】:
1.一种用以逐个存储单元擦除多个存储单元中的目标存储单元的方法,该多个存储单元包含于存储阵列中,每一存储单元包括源极、漏极、栅极、电荷陷获结构、以及位于该源极与漏极之间的沟道区域,多条位线耦接至该多个存储单元的该源极与漏极区域,且多条字线耦接至该多个存储单元的栅极,包括:施加第一电压至与该目标存储单元相关的该字线;施加第二电压至其他该多条字线;施加第三电压至与该目标存储单元相关的该位线;以及施加第四电压至其他该多条位线,其中该第一电压和该第三电压使该目标存储单元被擦除,而该第二电压和该第四电压用以抑制其他存储单元被擦除。
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