[发明专利]基板固定盘清洗单元、清洗装置及清洗方法无效

专利信息
申请号: 200710103859.5 申请日: 2007-05-17
公开(公告)号: CN101081396A 公开(公告)日: 2007-12-05
发明(设计)人: 权晟 申请(专利权)人: K.C.科技股份有限公司
主分类号: B08B7/00 分类号: B08B7/00
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 代理人: 韩明星;刘奕晴
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明涉及一种用于清除为进行在基板上涂敷光刻胶等多种基板处理作业而固定基板的基板固定盘上表面的杂质的基板固定盘清洗单元、清洗装置及清洗方法。依据本发明所提供的基板固定盘清洗单元,包含:主体;形成在所述主体并向所述基板固定盘喷射清洗剂的喷射孔,以用于分离所述基板固定盘上的杂质;离所述喷射孔间隔预定距离的吸入孔,以用于吸入由所述清洗剂分离的杂质。
搜索关键词: 固定 清洗 单元 装置 方法
【主权项】:
1、一种基板固定盘清洗单元,其特征在于包含:主体;形成在所述主体并向所述基板固定盘喷射清洗剂的喷射孔,以用于分离所述基板固定盘上的杂质;从所述喷射孔分开预定距离的吸入孔,以用于吸入由所述清洗剂分离的杂质。
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