[发明专利]曝光装置以及曝光方法无效
| 申请号： | 200710105250.1 | 申请日： | 2007-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN101082782A | 公开（公告）日： | 2007-12-05 |
| 发明（设计）人： | 前田武文 | 申请（专利权）人： | 日本精工株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027;H01L21/68;F16F15/02 |
| 代理公司： | 北京泛诚知识产权代理有限公司 | 代理人： | 杨本良;文琦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种同时进行基片的曝光复制和向基片装载台搬入或搬出基片，达到缩短作业节拍时间，同时消除搬入搬出基片时发生的振动给曝光精度带来影响，能以高精度进行曝光复制的曝光装置以及曝光方法。曝光装置PE具备：保持掩模M的掩模装载台10，位于掩模装载台10下方的主床台19，配设在主床台19侧面的第一辅助床台15与第二辅助床台16，在主床台19与第一及第二辅助床台15、16之间可移动的第一与第二基片装载台11、12，通过掩模M将图案曝光用的光照射到位于主床台19上的第一与第二基片装载台11、12所保持的基片W上的照射装置13，以及防止在第一辅助床台21和第二辅助床台22产生的振动传给主床台19的防振机构。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
1.一种曝光装置，其特征在于具备：保持掩模的掩模装载台；位于所述掩模装载台下方的主床台；配置在所述主床台侧面的第一辅助床台和第二辅助床台；在所述主床台和所述第一辅助床台间可移动的第一基片装载台；在所述主床台和所述第二辅助床台间可移动的第二基片装载台；通过所述掩模，将图案曝光用的光照射到位于所述主床台上方的所述第一和第二基片装载台所保持的基片上的照射装置；以及防止所述第一辅助床台和所述第二辅助床台所产生的振动传达到所述主床台的防振机构。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本精工株式会社，未经日本精工株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200710105250.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种提高微显示光引擎对比度的新型系统
- 下一篇：多层管及其制备方法
