[发明专利]一种新颖的高立体选择性合成吉西他滨工艺及中间体有效
申请号: | 200710106089.X | 申请日: | 2007-05-31 |
公开(公告)号: | CN101096379A | 公开(公告)日: | 2008-01-02 |
发明(设计)人: | 许永翔;杨浩;候雯 | 申请(专利权)人: | 南京卡文迪许生物工程技术有限公司;许永翔 |
主分类号: | C07H19/073 | 分类号: | C07H19/073 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 | 代理人: | 牛利民;陶贻丰 |
地址: | 210042江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种新颖的高立体选择性、适合工业化生产的合成吉西他滨的工艺方法,其中,该工艺包括如下的反应。此外本发明还公开了关键的中间体化合物。基团G1、G2、G3、G4和G5的定义详见说明书。 | ||
搜索关键词: | 一种 新颖 立体 选择性 合成 工艺 中间体 | ||
【主权项】:
1.一种合成吉西他滨或者其盐酸盐的工艺,其包括如下反应:其中,取代基G1和G2各自独立地为如下结构定义的基团:这里,R1选自C1-C3的烷基、或不存在;R2选自氢、C1-C4烷基、苯基或者取代的苯基;条件是G1和G2中至少有一个R2选自苯基或取代苯基;这里所述取代的苯基是C1-C4烷基、或卤素取代的苯基;G3选自C1-C4烷烃磺酰基,芳基磺酰基,取代的烷基磺酰基或取代的芳基磺酰基;G4和G5各自独立地选自C1-C7三烷基硅基;叔丁氧羰基、苄氧羰基或芴甲氧羰基;或者甲酰基、乙酰基、丙酰基、异丙酰基、丁酰基、异丁酰基、新戊酰基。
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