[发明专利]增加微影产量的设备及其方法无效
| 申请号： | 200710107399.3 | 申请日： | 2007-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN101221362A | 公开（公告）日： | 2008-07-16 |
| 发明（设计）人： | 林进祥;彭瑞君;陈永镇;林世杰 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了增加微影产量的设备及其方法。该微影设备包含一第一透镜系统、一第一基材基台、一第二透镜系统，与一第二基材基台。第一基材基台可接收来自第一透镜系统的第一辐射能，并可在一曝光步骤中移动一基材。第二透镜系统的解析度高于第一透镜系统的解析度。第二基材基台邻近于第一基材基台，可接收来自第二透镜系统的第二辐射能，并可自第一基材基台接收基材，且移动此基材。本发明能减少微影制程所需的时间，并增加整体的产量。 | ||
| 搜索关键词： | 增加 产量 设备 及其 方法 | ||
【主权项】：
1.一种微影设备，其特征在于其包含：一第一透镜系统；一第一基材基台，用以支撑一基材，并接受来自该第一透镜系统的一第一辐射能，且该第一基材基台在一曝光步骤中，相对一第一影像源移动于该第一透镜系统下方；一第二透镜系统，具有高于该第一透镜系统的解析度；以及一第二基材基台，邻近于该第一基材基台，以接收来自该第二透镜系统的一第二辐射能，该第二基材基台用以自该第一基材基台接收该基材，并相对一第二影像源移动于该第二透镜系统下方。
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