[发明专利]基板处理方法以及基板处理装置有效
申请号: | 200710108846.7 | 申请日: | 2007-06-05 |
公开(公告)号: | CN101086631A | 公开(公告)日: | 2007-12-12 |
发明(设计)人: | 桥诘彰夫 | 申请(专利权)人: | 大日本网目版制造株式会社 |
主分类号: | G03F7/42 | 分类号: | G03F7/42;H01L21/00;H01L21/3105 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 徐恕 |
地址: | 日本京都*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及一种基板处理方法以及基板处理装置,该基板处理方法用于从基板表面剥离并除去不再使用的抗蚀剂。在该基板处理方法中,向在基板保持装置上保持的基板的表面中央部供给抗蚀剂剥离液。另外,向在基板保持装置上保持的基板的表面周边部供给有机溶剂液体。 | ||
搜索关键词: | 处理 方法 以及 装置 | ||
【主权项】:
1.一种基板处理方法,用于从基板表面剥离并除去不再使用的抗蚀剂,其特征在于,包括:基板保持工序,由基板保持装置对基板进行保持;抗蚀剂剥离液供给工序,向在所述基板保持装置上保持的基板表面的中央部供给抗蚀剂剥离液;有机溶剂供给工序,向在所述基板保持装置上保持的基板表面的周边部供给有机溶剂的液体。
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