[发明专利]光刻设备和光刻设备清洗方法有效
| 申请号： | 200710109201.5 | 申请日： | 2007-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN101078887A | 公开（公告）日： | 2007-11-28 |
| 发明（设计）人： | M·K·斯塔文加;R·J·布鲁尔斯;H·詹森;M·H·A·利恩德斯;P·F·万滕;J·W·J·L·库伊帕斯;R·G·M·比伦;A·M·C·P·德琼格 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 公开了一种具有被配置为清洗表面的兆声换能器的浸没式光刻投射设备和一种利用兆声波清洗浸没式光刻投射设备的表面的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 清洗 方法 | ||
【主权项】：
1.一种浸没式光刻投射设备，包括：衬底台，其被构造并被布置为支撑衬底；投射系统，其被配置为将图案化的辐射射束投射到所述衬底上；兆声换能器，其被配置为清洗表面；以及液体供应系统，其被构造并被布置为在所述兆声换能器和将要清洗的所述表面之间供给液体。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200710109201.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：用于自动确认交易的方法以及电子支付系统
- 下一篇：长行程强力组合弹簧
