[发明专利]切割晶圆的方法有效

专利信息
申请号: 200710109881.0 申请日: 2007-06-01
公开(公告)号: CN101075580A 公开(公告)日: 2007-11-21
发明(设计)人: 褚福堂;钟启源 申请(专利权)人: 日月光半导体制造股份有限公司
主分类号: H01L21/78 分类号: H01L21/78
代理公司: 上海翼胜专利商标事务所 代理人: 翟羽
地址: 中国台湾高雄*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种切割晶圆的方法包括下列步骤:提供一晶圆,该晶圆具有一主动表面、一背面以及若干个纵向及横向的切割道,其中该等切割道位于该主动表面上,以界定出若干个晶粒;提供一复合胶膜,贴附该复合胶膜于该晶圆的主动表面,其中该复合胶膜包括一第一胶膜以及一第二胶膜,该第二胶膜位于该第一胶膜与该晶圆的主动表面之间,并且该第二胶膜为透明的;研磨该晶圆的背面;移除该第一胶膜;以及沿该等切割道切割附着有该第二胶膜的该晶圆,以分离该等晶粒。
搜索关键词: 切割 方法
【主权项】:
1、一种切割晶圆的方法,包括提供一晶圆,所述晶圆具有一主动表面、一背面以及若干个纵向及横向的切割道,其中所述切割道位于所述主动表面上,以界定出若干个晶粒;其特征在于:所述切割晶圆的方法进一步包括下列步骤:提供一复合胶膜,贴附所述复合胶膜于所述晶圆的主动表面,其中所述复合胶膜包括一第一胶膜以及一第二胶膜,所述第二胶膜位于所述第一胶膜与所述晶圆的主动表面之间,并且所述第二胶膜为透明的;研磨所述晶圆的背面;移除所述第一胶膜;以及沿所述切割道切割附着有所述第二胶膜的所述晶圆,以分离所述晶粒。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日月光半导体制造股份有限公司,未经日月光半导体制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710109881.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top