[发明专利]反及闸型快闪记忆体晶胞阵列及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200710110702.5 申请日: 2007-06-01
公开(公告)号: CN101315936A 公开(公告)日: 2008-12-03
发明(设计)人: 潘建尉;张守宇;曾增文;傅景鸿;锺志平 申请(专利权)人: 茂德科技股份有限公司
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L23/522;H01L21/8247;H01L21/768
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 代理人: 寿宁;张华辉
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明是有关于一种反及闸型快闪记忆体晶胞阵列及其制造方法。该反及闸型快闪记忆体晶胞阵列,其包括:一基板,其包括一主动区;复数个排成一列的晶胞,位于上述主动区上;一第一阻障层,覆盖上述复数个晶胞和围绕上述列的各末端的上述主动区;一第一氧化物,沉积于上述复数个晶胞之间的一间隙中,且填充上述间隙;一氧化物间隙壁,形成于位于上述列的各末端的上述晶胞的侧壁上;一多晶硅间隙壁,形成于上述氧化物间隙壁上,上述多晶硅间隙壁是做为驱动上述列晶胞的一选择栅极。
搜索关键词: 闸型快闪 记忆体 晶胞 阵列 及其 制造 方法
【主权项】:
1、一种反及闸型快闪记忆体晶胞阵列,其特征在于其包括:一基板,其包括一主动区;复数个排成一列的晶胞,位于该主动区上;一第一阻障层,覆盖该复数个晶胞和围绕该列的各末端的该主动区;一第一氧化物,沉积于该复数个晶胞之间的一间隙中,且填充该间隙;一氧化物间隙壁,形成于沿着该列的各末端的该晶胞的侧壁上;以及一多晶硅间隙壁,形成于该氧化物间隙壁上,该多晶硅间隙壁是做为驱动该列晶胞的一选择栅极。
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