[发明专利]在控制栅极边缘上操作存储装置的方法与结构有效

专利信息
申请号: 200710111918.3 申请日: 2007-06-20
公开(公告)号: CN101093860A 公开(公告)日: 2007-12-26
发明(设计)人: 吴昭谊 申请(专利权)人: 旺宏电子股份有限公司
主分类号: H01L29/792 分类号: H01L29/792;H01L29/423;H01L27/115;H01L23/522
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 王英
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明的电荷捕捉存储装置与方法,利用边缘诱发效应而增加第二位操作区间。此边缘诱发效应发生于字线底下的区域,使得当对存储装置使用空穴注入法时,空穴电荷储存于电荷捕捉层中,电荷捕捉层与字线正交,且空穴电荷沿着字线的边缘储存。在实施例中,虚拟接地阵列包括电荷捕捉层,其设置于二介质层之间,使得源极与漏极区域之上没有电荷捕捉层。施加空穴注入至此虚拟接地阵列之后,空穴电荷沿着每一字线的边缘储存,因为字线的边缘与非边缘部分相较之下,其电场较大。
搜索关键词: 控制 栅极 边缘 操作 存储 装置 方法 结构
【主权项】:
1、一种存储装置,包括:基板;电荷捕捉结构,其位于所述基板上,所述电荷捕捉结构在第一方向延伸;以及栅极在第二方向延伸,并与所述电荷捕捉层交错,所述栅极具有底面,所述底面由第一边缘与非边缘部分所定义,所述第一边缘与第二边缘分隔,且所述非边缘部分介于所述第一边缘与所述第二边缘之间,所述非边缘部分具有第一临界电压,所述第一与第二边缘具有第二临界电压,所述第二临界电压值低于所述第一临界电压;其中空穴通过空穴注入而被移至所述电荷捕捉层,且置于所述栅极之下、并沿着所述栅极的所述第一与第二边缘排列。
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