[发明专利]用于UV固化室的增加设备利用性/MWBC减少的装置和方法有效
申请号: | 200710112435.5 | 申请日: | 2007-06-26 |
公开(公告)号: | CN101174544A | 公开(公告)日: | 2008-05-07 |
发明(设计)人: | 胡安·卡洛斯·罗奇-阿尔维斯;托马斯·诺瓦克;萨尼夫·巴鲁贾;安德兹·卡祖巴;恩德卡·O·米科蒂 | 申请(专利权)人: | 应用材料股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;H01L21/268;H01L21/3105;C23C16/56 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 徐金国;梁挥 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种用于引导层状净化气流通过工件以去除除气或产生自处理期间的工件的污染物或物质的泵衬里。为了提供层状气流,该泵衬里可采用环形,其具有诸如各种尺寸和/或形状的狭槽的多个注入狭槽以及相对的多个接收狭槽。为了防止污染物在室的组件上的聚集,净化气流足够载送来自处理室的污染物或除气物质。为了防止物质在衬里上的冷凝,泵衬里可通过来自辐射源的传导和辐射进行加热。为了增加衬里的发射率,泵衬里还可进行阳极化或其它处理。 | ||
搜索关键词: | 用于 uv 固化 增加 设备利用 mwbc 减少 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于固化工件的系统,包括:室外壳;在所述室外壳中用于支持工件的衬底支架;辐射源,其用于将辐射引导到所述衬底支架上支撑的工件,以固化所述工件;以及泵衬里,其具有用于接收和排出净化气流的气体进气室和气体排气室,所述泵衬里具有用于引导基本上层状的净化气流通过由所述辐射正在进行固化的所述工件的表面的多个注入狭槽,所述泵衬里还具有与所述多个注入狭槽相对的用于接收引导通过所述晶片的气流的多个接收狭槽,所述接收狭槽进一步用于在所述固化处理期间接收从所述工件除气的任何物质。
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H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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