[发明专利]石英制品的烘焙方法、计算机程序和存储介质有效

专利信息
申请号: 200710112615.3 申请日: 2007-06-25
公开(公告)号: CN101092277A 公开(公告)日: 2007-12-26
发明(设计)人: 安倍胜彦;及川雅之;柴田哲弥;谷裕一 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: C03B20/00 分类号: C03B20/00;H01L21/31;H01L21/22
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种石英制品的烘焙方法。作为半导体制造装置的热处理装置的部件、即石英制品在加工时被铜污染,当运转热处理装置时,抑制对半导体基板产生的铜污染。在半导体基板的热处理中尚未使用石英制品的阶段,将石英制品置于加热气氛中,并且向该石英制品供给烘焙用气体,该烘焙用气体包含氯化氢气体和用于提高该气体的反应性的气体、例如氧气。由此,从石英制品的表面直至30μm深度的铜浓度成为20ppb以下,优选成为3ppb以下。烘焙处理在将石英制品装配为热处理装置前或装配后进行。
搜索关键词: 石英 制品 烘焙 方法 计算机 程序 存储 介质
【主权项】:
1.一种石英制品的烘焙方法,该石英制品被配置在收纳半导体基板并进行热处理的热处理装置的反应容器内,至少一部分被置于反应容器内的热处理气氛中,其特征在于,包括:将处理前的石英制品配置在反应容器内的工序;和对反应容器进行加热,并且向反应容器内供给烘焙用气体的工序,该烘焙用气体包含氯化氢气体和用于提高该氯化氢气体的反应性的气体,通过将在石英制品的制造过程中被污染的铜除去,从表面直至30μm深度的铜浓度成为20ppb以下。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社,未经东京毅力科创株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710112615.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top