[发明专利]一种低压/高α值的ZnO压敏元件及其制造方法无效
申请号: | 200710113775.X | 申请日: | 2007-09-12 |
公开(公告)号: | CN101157551A | 公开(公告)日: | 2008-04-09 |
发明(设计)人: | 陶明德;刘倩 | 申请(专利权)人: | 山东中厦电子科技有限公司 |
主分类号: | C04B35/453 | 分类号: | C04B35/453 |
代理公司: | 济南泉城专利商标事务所 | 代理人: | 张贵宾 |
地址: | 274000山东省菏泽市*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明公开了一种低压/高α值的ZnO压敏元件及其制造方法,属于化学材料及制备领域。该低压/高α值的ZnO压敏元件,是通过如下方式制成的:用ZnO掺入bi、Ti、Mn、C0、Ni、Zr、W、Al的氧化物至少3种制成导电膜片;用Zn-bi-Sb系或Zn-bi-Sn系掺入Co、Mn、Ni、W、Si、Al、Zr的氧化物至少4种制成高α值的压敏膜片,将两种膜片叠合成复合膜片,烧成具有低压/高α值的压敏膜片。本发明用复合膜片技术制造低压/高α值ZnO压敏元件,解决了低压/高α值压敏元件存在的困难。该技术可将电压梯度降到0.8-3V,非线性系数α保持在40-60,漏电流为0.5-1.0uA。 | ||
搜索关键词: | 一种 低压 zno 元件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种低压/高α值的ZnO压敏元件,其特征在于:是通过如下方式制成的:用ZnO掺入bi、Ti、Mn、CO、Ni、Zr、W、Al的氧化物至少3种制成导电膜片;用Zn--bi--Sb系或Zn--bi--Sn系掺入Co、Mn、Ni、W、Si、Zr、Al的氧化物至少4种制成高α值的非线性指数面性压敏膜片,将两种膜片叠合成复合膜片,经压制减薄后,在950℃-1100℃,2.5-3.0小时保温烧成具有低压/高α值的压敏膜片;膜片两面焙银并切成元件要求的尺寸,附上引线包封成元件;元件性能:VlmA/mm=0.8-3.0V,α=40-60,Ir=0.5-1.0uA。
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