[发明专利]一种低电阻率/高B值负温度系数热敏电阻芯片及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200710113776.4 申请日: 2007-09-12
公开(公告)号: CN101118793A 公开(公告)日: 2008-02-06
发明(设计)人: 陶明德;刘倩 申请(专利权)人: 山东中厦电子科技有限公司
主分类号: H01C7/04 分类号: H01C7/04
代理公司: 济南泉城专利商标事务所 代理人: 张贵宾
地址: 274000山东省菏*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明涉及一种低电阻率/高B值负温度系数热敏电阻芯片,是通过如下方式制成的:将Mn-Ni-Cu系加入TiO2、Cr2O3、Nb2O5、WO3、Pr6O11中选出的2-3种制成低电阻率膜片;将Mn-Co-Cu系加入TiO2、Nb2O5、NiO的组合物制成高B值膜片;将两种膜片叠合成复合膜片,经压制减薄后,在1080℃-1120℃,2.5-3.0小时保温锻烧成具有低电阻率/高B值的热敏膜片,烧后密度为4.9-5.1g/cm3,然后热敏膜片两面焙银并切成芯片要求的尺寸。本发明还涉及一种低电阻率/高B值负温度系数热敏电阻芯片的制备方法。本发明的有益效果是,具有极低的电阻率和很高的B值,制备工艺简单,制造成本低、生产效率高,适合大规模生产。
搜索关键词: 一种 电阻率 温度 系数 热敏电阻 芯片 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种低电阻率/高B值负温度系数热敏电阻芯片,其特征在于:是通过如下方式制成的:将Mn-Ni-Cu系加入TiO2、Cr2O3、Nb2O5、WO3、Pr6O11中选出的2-3种制成低电阻率膜片;将Mn-Co-Cu系加入TiO2、Nb2O5、NiO的组合物制成高B值膜片;将两种膜片叠合成复合膜片,经压制减薄后,在1080℃-1120℃,2.5-3.0小时保温锻烧成具有低电阻率/高B值的热敏膜片,烧后密度为4.9-5.1g/cm3,然后热敏膜片两面焙银并切成芯片要求的尺寸。
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