[发明专利]电感耦合线圈及应用该线圈的电感耦合等离子体装置有效
| 申请号： | 200710118653.X | 申请日： | 2007-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN101345114A | 公开（公告）日： | 2009-01-14 |
| 发明（设计）人： | 申浩南;张文雯;李东三;陈鹏 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | H01F5/00 | 分类号： | H01F5/00;H01F38/14;H05H1/46;H05H1/50;H01L21/306 |
| 代理公司： | 北京凯特来知识产权代理有限公司 | 代理人： | 赵镇勇;姚巍 |
| 地址： | 100016北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种电感耦合线圈及应用该线圈的电感耦合等离子体装置，包括内绕组、外绕组，内绕组与外绕组之间的相对位置可以调节。内绕组和外绕组分别固定在内绕组支架和外绕组支架上，内绕组支架和外绕组支架设置在反应室上部，外绕组支架上固定有齿条，反应室的壁上设有齿轮，齿轮与齿条啮合。使内绕组与外绕组之间的相对位置可以调节，可以通过调节内绕组与外绕组之间的相对位置来调节反应室内等离子体的密度，使等离子体在反应室的晶片上方分布均匀，能有效调节刻蚀速率的均匀性，提高刻蚀晶片的质量。本发明主要用于半导体晶片加工设备，也适用于其它类似的设备。 | ||
| 搜索关键词： | 电感 耦合 线圈 应用 等离子体 装置 | ||
【主权项】：
1、一种电感耦合线圈，包括内绕组、外绕组，其特征在于，所述内绕组与外绕组之间的相对位置可以调节。
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