[发明专利]一种微机电系统磁执行器的制作方法

摘要

本发明涉及微机电系统微型执行器技术领域，公开了一种微机电系统磁执行器的制作方法，包括：A.在硅晶片下表面上淀积氮化硅薄膜，上表面上淀积氧化硅薄膜；B.保护正面，背面光刻，刻蚀形成氮化硅薄膜窗口；C.正面光刻，刻蚀形成氮化硅薄膜执行器图形；D.正面光刻，打底胶，电子束蒸发Cr/Au，剥离形成金属线圈及电极；E.正面光刻，打底胶，蒸发种子层，电镀金；F.正面光刻，打底胶，去金去铬；G.正面泛曝，显影，打底胶，保护正面，腐蚀背面体硅直到氧化硅层；H.腐蚀氧化硅，释放执行器。本发明利用磁力为推动力，增强了执行器偏移振动能力，利用光刻胶作为绝缘材料，简化了制作工艺，避免了可能存在的应力、热效应等问题。

主权项

1、一种微机电系统磁执行器的制作方法，其特征在于，该方法包括：A、在硅晶片下表面上淀积氮化硅薄膜，上表面上淀积氧化硅薄膜；B、保护正面，背面光刻，刻蚀形成氮化硅薄膜窗口；C、正面光刻，刻蚀形成氮化硅薄膜执行器图形；D、正面光刻，打底胶，电子束蒸发Cr/Au，剥离形成金属线圈及电极；E、正面光刻，打底胶，蒸发种子层，电镀金；F、正面光刻，打底胶，去金去铬；G、正面泛曝，显影，打底胶，保护正面，腐蚀背面体硅直到氧化硅层；H、腐蚀氧化硅，释放执行器。