[发明专利]一种锗基底零件表面的红外截止滤光膜膜系及其镀制方法有效

专利信息
申请号: 200710123582.2 申请日: 2007-07-04
公开(公告)号: CN101067661A 公开(公告)日: 2007-11-07
发明(设计)人: 刘凤玉 申请(专利权)人: 中国航空工业第一集团公司第六一三研究所
主分类号: G02B1/10 分类号: G02B1/10;C23C14/06;C23C14/24
代理公司: 中国航空专利中心 代理人: 李建英
地址: 471009*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明属光学薄膜制造技术,用于红外锗基底零件截止滤光膜层的镀制。在光学薄膜范畴,对某一波段范围要求高反射率,相近的另一波段范围高透射率特性的膜系称之为截止滤光膜。未查阅到镀制本发明红外截止滤光膜的报道或资料。本发明的特点是膜层对3.5μm~4.8μm波段范围有高的反射率,对7.5μm~11μm波段范围有高的透射率,镀制此类膜层的光学零件可用于红外双光路光学系统的仪器,具有将两波段光分开的作用,对提高红外光学仪器性能、减小仪器的重量及体积具有重要意义。
搜索关键词: 一种 基底 零件 表面 红外 截止 滤光 膜膜系 及其 方法
【主权项】:
1.一种锗基底零件表面的红外截止滤光膜膜系,其特征在于,该膜系从里到外由13层膜组成,其奇数层膜料为硫化锌,偶数层膜料为锗;每层膜的光学厚度为: 序号 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 膜层的光学 厚度(nm) 552 1001 1121 910 923 1173 956 682 1224 954 702 1986 2313
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