[发明专利]用于局部屏蔽MR超导磁线圈的方法和装置有效

专利信息
申请号: 200710126220.9 申请日: 2007-06-22
公开(公告)号: CN101093248A 公开(公告)日: 2007-12-26
发明(设计)人: 黄先锐 申请(专利权)人: 通用电气公司
主分类号: G01R33/42 分类号: G01R33/42
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 王岳;张志醒
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种用于局部分等级屏蔽的方法和装置,其包括梯度屏蔽环(75),该梯度屏蔽环具有定位于接近超导磁线圈(70,72)的多个弧(92,94,110,112,116,118,136,138,154,156,164,166,170,172,182,184)。该多个弧(92,94,110,112,116,118,136,138,154,156,164,166,170,172,182,184)与由磁场梯度产生的梯度磁场磁耦合,以便局部屏蔽该超导磁线圈(70,72)。
搜索关键词: 用于 局部 屏蔽 mr 超导 线圈 方法 装置
【主权项】:
1.一种屏蔽线圈装置,包括:构成封闭的传导路径并且具有定位于沿着MR系统(10)的第一超导磁线圈(70)的部分的多个弧(92,94,110,112,116,118,136,138,154,156,164,166,170,172,182,184)的超导线(75),该多个弧(92,94,110,112,116,118,136,138,154,156,164,166,170,172,182,184)配置为与由第一方向的磁场梯度(Gx,Gy,Gz)产生的梯度磁场磁耦合,以便局部屏蔽第一超导磁线圈(70)。
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