[发明专利]表征光学系统的透射损失的方法有效
| 申请号： | 200710126470.2 | 申请日： | 2007-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN101089733A | 公开（公告）日： | 2007-12-19 |
| 发明（设计）人： | A·J·登博夫;W·M·科贝杰;M·杜萨;M·G·M·范克拉埃杰 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 辐射射束的照明轮廓最初利用CCD检测器测量。接着将参考反射镜置于高孔径透镜的焦平面中并且测量反射辐射。通过比较照明轮廓和检测的辐射，确定可接着用于散射测量建模的S和P偏振的透射损失是可能的。 | ||
| 搜索关键词： | 表征 光学系统 透射 损失 方法 | ||
【主权项】：
1.一种表征光学系统的透射损失的方法，包括：测量辐射射束的照明轮廓；投射所述辐射射束通过所述光学系统；测量投射通过所述光学系统的所述辐射射束的强度分布；以及比较所测量的光谱和所述照明轮廓以表征所述透射损失。
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