[发明专利]角分辨分光光刻术的特性测定方法与设备有效

专利信息
申请号: 200710126486.3 申请日: 2007-06-19
公开(公告)号: CN101093362A 公开(公告)日: 2007-12-26
发明(设计)人: A·G·M·基尔斯;A·J·登贝夫;S·C·J·A·凯 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H01L21/027
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 王波波
地址: 荷兰费*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 在从衬底衍射时进行两个正交偏振光束的同时测量来确定衬底的特性。具有在正交方向上偏振的辐射的线性偏振光源经由两个非偏振分束器传送,所述两个非偏振分束器中的一个相对于另一个旋转90°。组合光束接着被衍射而离开衬底,然后返回而通过非偏振分束器并通过移相器和沃拉斯顿棱镜,然后被CCD照相机测量。这样,可测量相位和两个偏振光束的各种相位跃变的强度,并可确定光束的偏振态。如果移相变为零(即无相移),则衬底的光栅使其参数由同一检测器系统同时用TE和TM偏振光测量。
搜索关键词: 分辨 分光 光刻 特性 测定 方法 设备
【主权项】:
1.一种配置成测量衬底特性的检查设备,包括:配置成可提供辐射束的光源;配置成将所述辐射束聚焦到衬底上的透镜;配置成在所述辐射束从所述衬底表面反射后,将所述辐射束分离成两个正交偏振的子光束的分束器;以及配置成可同时检测两个正交偏振子光束的角分辨光谱的检测器系统。
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