[发明专利]金属有机化合物的化学气相淀积设备无效

专利信息
申请号: 200710127400.9 申请日: 2007-07-05
公开(公告)号: CN101100743A 公开(公告)日: 2008-01-09
发明(设计)人: 上野昌纪;上田登志雄;高须贺英良 申请(专利权)人: 住友电气工业株式会社
主分类号: C23C16/34 分类号: C23C16/34;C23C16/448;H01L21/365
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 穆德骏;黄启行
地址: 日本大阪府大阪*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 金属有机化合物化学气相淀积设备是用于通过使用反应性气体在衬底上形成薄膜的金属有机化合物化学气相淀积设备,并且包括:用于加热该衬底并且具有用于保持该衬底的保持表面的基座;和用于引入反应性气体到该衬底的气流道。具有被保持面对着该气流道的内部的保持表面的该基座是可旋转的,并且沿着反应性气体的流向的该气流道的高度从一个位置到一个位置保持定值,并且从该位置到下游侧是单调递减的。因此能在使得所形成的薄膜具有均匀厚度的同时提高薄膜形成效率。
搜索关键词: 金属 有机化合物 化学 气相淀积 设备
【主权项】:
1.用于通过使用反应性气体在衬底上形成薄膜的金属有机化合物化学气相淀积设备,包括:用于加热所述衬底并且具有用于保持所述衬底的保持表面的加热元件;和用于引入所述反应性气体到所述衬底的气流道,其中具有被保持面对着所述气流道的内部的保持表面的所述加热元件是可旋转的,并且沿着所述反应性气体的流向的所述气流道的高度在从用于将所述衬底保持在所述保持表面的位置的上游侧端部到所述保持表面的任意的位置保持定值,并且从所述任意的位置到下游侧是单调递减的。
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