[发明专利]基板处理装置、液膜冻结方法以及基板处理方法有效

专利信息
申请号: 200710127899.3 申请日: 2007-07-17
公开(公告)号: CN101145502A 公开(公告)日: 2008-03-19
发明(设计)人: 宫胜彦;藤原直澄;泉昭 申请(专利权)人: 大日本网目版制造株式会社
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00;B08B7/00
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 徐恕
地址: 日本京都*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种能够在抑制基板周边构件的耐久性劣化的同时,在整个基板表面生成冻结膜的基板处理装置、液膜冻结方法以及使用该液膜冻结方法的基板处理方法。从冷却气体排放喷嘴向形成了液膜的基板表面局部的排放冷却气体。然后,在旋转基板的同时,使冷却气体排放喷嘴沿着移动轨迹从基板的旋转中心位置向基板的端缘位置摇动。由此,在基板表面的表面区域中,冻结了液膜的区域(冻结区域)从基板表面的中央部向周缘部扩散。因此,冷却气体的供给部位被限定在基板表面上的一部分区域,从而能够在抑制基板周边构件的耐久性劣化的同时,在整个基板表面生成冻结膜。
搜索关键词: 处理 装置 冻结 方法 以及
【主权项】:
1.一种基板处理装置,具有冻结形成在基板表面上的液膜的功能,其特征在于,具有:基板保持装置,其以使形成了液膜的基板表面朝向上方的状态,将基板保持为大致水平形态,冷却气体排放装置,其向在上述基板保持装置上保持的上述基板的表面,局部地排放冷却气体,该冷却气体的温度比构成上述液膜的液体的凝固点的温度低,相对移动机构,其使上述冷却气体排放装置沿着上述基板表面相对于上述基板移动; 在从上述冷却气体排放装置排放上述冷却气体的同时,通过上述相对移动机构使上述冷却气体排放装置相对于上述基板移动,从而在整个上述基板表面生成冻结膜。
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