[发明专利]磁阻效应元件的制造方法和磁阻效应元件有效
| 申请号： | 200710128678.8 | 申请日： | 2007-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN101101959A | 公开（公告）日： | 2008-01-09 |
| 发明（设计）人： | 福泽英明;汤浅裕美;藤庆彦 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | H01L43/12 | 分类号： | H01L43/12;H01L43/08;H01L43/10 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 | 代理人： | 徐申民 |
| 地址： | 日本国东京*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明其目的在于提供一种可应用于高密度存储的磁存储装置、可设法提高可靠性的磁阻效应元件。本发明的磁阻效应元件的制造方法为该磁阻效应元件包括：磁化方向实质上固定于一方向的磁化固定层；磁化方向与外部磁场相对应而变化的磁化自由层；以及设置于所述磁化固定层和所述磁化自由层两者间、包含绝缘层和贯通所述绝缘层的金属层的隔层，在该磁阻效应元件的制造方法中所述隔层形成时，形成第一金属层，在所述第一金属层上形成可变换为所述绝缘层的第二金属层，进行第一变换处理，将所述第二金属层变换为所述绝缘层，并且形成贯通所述绝缘层的所述金属层，在通过所述第一变换处理所形成的所述绝缘层和所述金属层上形成可变换为所述绝缘层的第三金属层，进行第二变换处理，将所述第三金属层变换为所述绝缘层，并且形成贯通所述绝缘层的所述金属层。 | ||
| 搜索关键词： | 磁阻 效应 元件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种磁阻效应元件的制造方法，该磁阻效应元件包括：磁化方向实质上固定于一方向的磁化固定层；磁化方向与外部磁场相对应而变化的磁化自由层；以及设置于所述磁化固定层和所述磁化自由层两者间、包含绝缘层和贯通所述绝缘层的金属层的隔层，其特征在于，当形成所述隔层时，形成第一金属层，在所述第一金属层上形成变换为所述绝缘层的第二金属层，进行第一变换处理，将所述第二金属层变换为所述绝缘层，并且形成贯通所述绝缘层的所述金属层，在通过所述第一变换处理所形成的所述绝缘层和所述金属层上形成变换为所述绝缘层的第三金属层，进行第二变换处理，将所述第三金属层变换为所述绝缘层，并且形成贯通所述绝缘层的所述金属层。
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