[发明专利]光刻设备和器件制造方法有效
| 申请号： | 200710129083.4 | 申请日： | 2007-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN101105640A | 公开（公告）日： | 2008-01-16 |
| 发明（设计）人： | 安德利·B·朱尼克;马塞尔·K·M·博根;德克－让·比沃特;托马斯·J·M·卡斯滕米勒 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 齐晓寰 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 公开了一种光刻设备，包括：支架，构建用于支撑构图装置，所述构图装置能够沿截面给予辐射束图案以形成已构图的辐射束，所述支架包括支架夹具，所述支架夹具构建用于将构图装置夹紧到支架上；以及弯曲机械装置，构建用于将弯曲扭矩施加到已夹紧的构图装置上，所述弯曲机械装置包括力/扭矩传动装置，配置用于无需实质减小由支架夹具施加于构图装置上的夹紧力就可以对已夹紧的构图装置起作用。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻设备，包括：照射系统，被配置用于调节辐射束；支架，被构建用于支撑构图装置，所述构图装置能够沿截面给予辐射束图案以形成已构图的辐射束，所述支架包括支架夹具，所述支架夹具被构建用于将构图装置夹紧到支架上；弯曲机械装置，被构建用于将弯曲扭矩施加到已夹紧的构图装置上，所述弯曲机械装置包括力/扭矩传动装置，被配置用于无需实质减小由支架夹具施加于构图装置上的夹紧力就可以对已夹紧的构图装置起作用；衬底台，被构建用于保持衬底；以及投影系统，被配置用于将已构图的辐射束投影到衬底的目标部分上。
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