[发明专利]用于等离子体反应器系统的工件旋转装置无效
| 申请号： | 200710129977.3 | 申请日： | 2007-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN101174098A | 公开（公告）日： | 2008-05-07 |
| 发明（设计）人： | 理查德·莱温顿;吉姆·K·尼古恩;阿杰伊·库玛;伊伯拉希姆·M·伊伯拉希姆;马德哈唯·R·钱德拉乔德;斯科特·艾伦·安德森 | 申请（专利权）人： | 应用材料股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/00;H01L21/00;H01L21/67;H01L21/677;H01L21/687;H05H1/24;H05H1/00 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐金国;梁挥 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于处理平面工件的等离子体处理系统，其具有相对于系统的等离子体处理腔室改变工件的旋转位置的能力。该系统工件传送装置耦合到系统的反应腔室。工件传送装置能传送工件进出各个腔室。该系统进一步包括与工件传送装置耦合的工厂界面，用于传送工件进出等离子体处理系统的工厂环境外部。工厂界面包括(a)限定内空间的框架；(b)可旋转且可转移的臂，在该内空间内的所述框架上支撑；(c)附接到该臂外端的工件运送叶片；(d)固定的工件夹持支撑托架，其便于工件的旋转。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 等离子体 反应器 系统 工件 旋转 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于处理平面工件的等离子体处理系统，包括：多个等离子体反应腔室；耦合到所述多个反应腔室的工件传送装置，其能传送工件进出各个所述腔室；以及耦合到所述工件传送装置的工厂界面，其用于传送工件进出所述等离子体处理系统的工厂环境外部，所述工件界面包含：(a)限定内空间的框架；(b)在所述内空间内的所述框架上支撑的可旋转且可平移的臂；(c)附接到所述臂外端的工件运送叶片；(d)固定的工件夹持支撑托架，其包含固定在所述框架上并延伸到所述框架的内空间中的支架边缘，并限定工件支撑平面，所述托架进一步包含在所述托架的外围的不同部分处的第一和第二工件传送边缘。
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