[发明专利]溅射、沉积分离腔式真空薄膜沉积装置及其工作方法无效
| 申请号： | 200710131996.X | 申请日： | 2007-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN101386975A | 公开（公告）日： | 2009-03-18 |
| 发明（设计）人： | 陶汝华;董伟伟;邓赞红;李达;方晓东 | 申请（专利权）人： | 中国科学院安徽光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 230031*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种溅射、沉积分离腔式真空薄膜沉积装置及其工作方法。装置包括由带通孔(5)的隔离板(6)分离的分别连接真空系统的溅射腔(18)和沉积腔(19)，以及分置其内的靶材(3)和基板(9)，通孔(5)位于沉积通道上、靶材(3)位于溅射通道上，特别是隔离板(6)为凸出部伸入溅射腔(18)内的球状或锥状；方法包括对溅射、沉积腔真空的抽取、靶材和基板的加热，以及工作气体的配给、溅射源的轰击，特别是还包含步骤：(a)根据成膜种类，分别确定溅射腔和沉积腔真空度，(b)依照成膜要求，分别确定溅射腔和沉积腔内环境气氛，(c)启动选定的溅射源，进行溅射成膜。它既能用于真空蒸发沉积，又可用于溅射沉积来制备薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 沉积 分离 真空 薄膜 装置 及其 工作 方法 | ||
【主权项】：
1、一种溅射、沉积分离腔式真空薄膜沉积装置，包括由带通孔(5)的隔离板(6)分离的溅射腔(18)和沉积腔(19)，以及分置其内的靶材(3)和基板(9)，所说通孔(5)位于所说靶材(3)和基板(9)间的沉积通道上，所说靶材(3)位于溅射源(2)的溅射通道上，所说溅射腔(18)和沉积腔(19)分别连接有真空系统，其特征在于所说隔离板(6)为球状或锥状，所说球状或锥状隔离板(6)的凸出部伸入溅射腔(18)内。
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