[发明专利]具有对焦机构的新型直写光刻装置在审

专利信息
申请号: 200710133797.2 申请日: 2007-09-30
公开(公告)号: CN101158817A 公开(公告)日: 2008-04-09
发明(设计)人: 刘文海 申请(专利权)人: 芯硕半导体(合肥)有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F7/207
代理公司: 合肥金安专利事务所 代理人: 金惠贞
地址: 230001安徽省合*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明涉及具有对焦机构的新型直写光刻装置,解决了的直写光刻装置存在的光学定位检测系统和曝光投影系统离轴对焦对不同镜头需要分别位移校正的问题。特点在于:平行与光学定位检测系统增设对焦系统,对焦系统包括由上至下依次对应排列的对焦光源、对焦图形发生器、对焦透镜、或透镜组和对焦反射镜,其中对焦反射镜与光学定位检测系统中的检测分束器平行对应。直接利用可变倍率的投影镜头来共轴投射对焦图形,实现不同镜头的共轴对焦,避免了离轴对焦对不同镜头所需要的分别位移校正过程,提高效率,同时减小了离轴对焦装置的成本。
搜索关键词: 具有 对焦 机构 新型 光刻 装置
【主权项】:
1.具有对焦机构的新型直写光刻装置,包括光源、光学集光系统、投影光学系统、镜头转换机构和光学定位检测系统;其中,光学集光系统包括光学集光器和可编程的图形发生器,光源与光学集光器对应;投影光学系统包括透镜、或透镜组和两个以上的投影镜头,透镜、或透镜组对应位于可编程的图形发生器下方,两个以上的投影镜头位于镜头转换器上;光学定位检测系统包括光敏感探测器和检测透镜,检测透镜通过检测波长分束器与投影镜头对应;其特征在于:光学定位检测系统一侧设有对焦系统;所述对焦系统包括由上至下依次对应排列的对焦光源、对焦图形发生器、对焦透镜、或透镜组和对焦反射镜,对焦系统平行与光学定位检测系统,其中对焦反射镜与光学定位检测系统中的检测分束器平行对应。
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