[发明专利]半导体工业废水的处理方法有效
| 申请号： | 200710134796.X | 申请日： | 2007-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN101234801A | 公开（公告）日： | 2008-08-06 |
| 发明（设计）人： | 王毅刚;王昕彤;王前 | 申请（专利权）人： | 无锡凝洋环保科技有限公司 |
| 主分类号： | C02F1/44 | 分类号： | C02F1/44;B01D61/18;B01D69/12;B01D71/42;B01D71/56 |
| 代理公司： | 无锡华源专利事务所 | 代理人： | 聂汉钦 |
| 地址： | 214142江苏省无锡*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种半导体工业废水的处理方法，主要用于半导体生产企业在生产过程中产生的废水的处理和回收利用。其特征在于处理步骤如下：(1)将半导体器件制造中产生的电镀废水和研磨废水进行混合，形成混合废水；(2)将步骤(1)的混合废水泵入浸没式膜过滤装置过滤；(3)将经过步骤(2)过滤的水泵入纳滤膜过滤装置过滤，经过纳滤膜过滤装置过滤的水即可直接回用。本发明采用上述半导体加工混合废水经浸没式膜过滤装置过滤及纳滤膜过滤装置过滤处理，可回收大于85％的水资源，回收水质稳定，回收水质完全达到和优于国家标准，整个处理过程未添加任何化学药剂，不会产生有害的污泥，运行费用较低，浓缩后的污泥无毒、无害，易处理。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 工业废水 处理 方法 | ||
【主权项】：
1.半导体工业废水的处理方法，其特征在于处理步骤如下：(1)将半导体器件制造中产生的电镀废水和研磨废水进行混合，形成混合废水；(2)将步骤(1)的混合废水泵入浸没式膜过滤装置过滤；(3)将经过步骤(2)过滤的水泵入纳滤膜过滤装置过滤，经过纳滤膜过滤装置过滤的水即可直接回用。
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