[发明专利]化学气相沉积的设备无效
申请号: | 200710135542.X | 申请日: | 2007-11-13 |
公开(公告)号: | CN101158035A | 公开(公告)日: | 2008-04-09 |
发明(设计)人: | 肖文进 | 申请(专利权)人: | 吴江市天地人真空炉业有限公司 |
主分类号: | C23C16/52 | 分类号: | C23C16/52 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215200江苏省吴江市松陵*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 该技术为热处理行业处理设备领域。该设备由反应器、加热系统、原料气供给及进气系统、抽真空系统四个主要部分组成。目前普通化学气相沉积是靠热能激活的化学反应,其主要缺点:反应温度高,限制了化学气相沉积的应用。为了降低反应温度降低,化学气相沉积有了新的进展。通过气态物质在工件表面的化学反应,获得沉积物粒子并成膜;可在常压或低于标准大气压下进行。采用等离子和激光辅助技术可以显著强化化学反应,使其在较低的温度下进行沉积;为使沉积层达到所要求的性能,对气相反应必须精确控制。 | ||
搜索关键词: | 化学 沉积 设备 | ||
【主权项】:
1.设备较简单,适于大批量生产,灵活性强;膜层的化学成分容易控制,膜层纯度高、致密性好,可以获得梯度腹层或混合腹层;沉积温度高,通常在850~1100℃进行,膜层与基体的结合强度高。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的