[发明专利]用于在容器内表面上沉积涂层的装置有效
申请号: | 200710137938.8 | 申请日: | 2007-07-17 |
公开(公告)号: | CN101109076A | 公开(公告)日: | 2008-01-23 |
发明(设计)人: | 让-米歇尔·里于;尼古拉·肖梅尔;伊夫-阿尔邦·杜克洛 | 申请(专利权)人: | 赛德尔参与公司 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50;C23C16/52 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 | 代理人: | 楼仙英 |
地址: | 法国奥*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | 在容器(10)的内表面沉积涂层的装置,在这类装置中,沉积是通过低压等离子体进行的,等离子体是由微波类电磁波激发前体气体在容器(10)中产生。本发明设置了一种注射管(13),该注射管被浸入到该容器(10)中,浸入长度为在容器(10)的顶部(18)和底部(17)之间计算的容器(10)总高度的四分之一到二分之一之间,所述注射管(13)的长度构成纵向天线(16),其能够接收由所述发生器(3)产生的超高频电磁波并能够传播HT点火信号,一种盘(21、23、25)形式的超高频短路(19)以这样一种方式被设置在注射管(13)上,使得在腔体一侧的所述盘(21、23、25)的表面限定了沿所述注射管(13)传播的电磁波的零振幅点,短路(19)和注射管(13)的自由端(13a)之间的长度相应于在注射管(13)的自由端(13a)处四分之一波长的一奇数值以获得最大振幅,也就是一种波腹。 | ||
搜索关键词: | 用于 容器 表面上 沉积 涂层 装置 | ||
【主权项】:
1.一种用来在由热塑性塑料制作的容器(10)的内表面沉积涂层的装置,在该装置中沉积是通过低压等离子体来进行的,等离子体是通过由超高频微波类电磁波激发前体气体而在容器(10)内产生的,在该装置中,容器(10)被置于由导电材料制作的腔体中,微波被引入到该腔体中,所述装置包括:一种超高频电磁波发生器(3);一种电磁波导(4),用来将所述电磁波发生器(3)连接到腔体(2)的侧壁上的窗口(5)上,使得在所述腔体(2)中产生至少一个中心场;用来注射前体气体的设备,包括部分地延伸进入到所述容器(10)中的注射管(13);用来抽吸腔体(2)和容器(10)的内部容积的设备;以及内部壳体(6),与腔体(2)同轴并基本上透过所述电磁波,该壳体是例如由石英制作而且限定了一个腔室(7),在激发前体气体期间容器(10)被置于该腔室中,其中,注射管(13)浸入容器(10)中,浸入长度为容器(10)的顶部(18)和底部(17)之间计算的容器(10)的总高度的四分之一和二分之一之间,注射管(13)的所述长度构成能够接收到由所述发生器(3)产生的所述超高频电磁波的纵向天线(16),其中,以盘(21、23、25)形式的超高频短路(19)以这样一种方式被设置在注射管(13)上,使得面向腔体的一侧上的所述盘(21、23、25)的表面限定了沿所述注射管(13)传播的电磁波的零振幅点,在所述短路(19)和所述注射管(13)的自由端(13a)之间的长度相应于四分之一波长的一奇数值以便在注射管(13)的自由端(13a)处获得最大振幅,也就是波腹。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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