[发明专利]修复光掩模图案缺陷的方法

摘要

本发明公开了一种修复光掩模图案缺陷的方法，其包括：图案化透明衬底上的目标层，因此形成第一图案；通过检查第一图案来探测包括有缺陷的图案的有缺陷的管芯；在透明衬底上形成掩模层，通过在掩模层上进行曝光工艺和显影工艺形成选择性地暴露有缺陷的管芯的掩模图案；使用掩模图案作为蚀刻掩模蚀刻暴露有缺陷的管芯的目标层以暴露透明衬底，在透明衬底的暴露的有缺陷的管芯上沉积目标层，并图案化沉积的目标层，因此在有缺陷的管芯上形成第二图案。

主权项

1.一种修复光掩模缺陷的方法，包括：在透明衬底上形成第一图案；通过检查所述第一图案来探测包括有缺陷的图案的有缺陷的管芯；在透明衬底上形成选择性地暴露所述有缺陷的管芯的掩模图案；使用所述掩模图案作为蚀刻掩模除去所述有缺陷的管芯的有缺陷的图案；在所述透明衬底的有缺陷的管芯上形成用于形成第二图案的材料层；除去所述掩模图案；以及通过图案化所述材料层在所述有缺陷的管芯上形成所述第二图案。