[发明专利]阳离子改性半乳甘露聚糖和含有该物质的化妆材料组合物无效
| 申请号： | 200710141629.8 | 申请日： | 2004-05-07 |
| 公开（公告）号： | CN101129306A | 公开（公告）日： | 2008-02-27 |
| 发明（设计）人： | 武田博光;森芳彦 | 申请（专利权）人： | 东邦化学工业株式会社 |
| 主分类号： | A61K8/73 | 分类号： | A61K8/73;A61K8/84;A61K8/89;A61Q5/12 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 陈昕 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供具有如下特性的阳离子改性半乳甘露聚糖：在配入毛发处理用组合物中时，可给予优异的调理效果及干燥后良好的湿润感和柔软性，在配入身体用清洗剂等皮肤化妆材料组合物中时，可以改善调理效果及由乳化性能产生的使用感。具体而言，涉及通过在半乳甘露聚糖所含的部分羟基上引入特定的含季氮原子的基团而形成的阳离子改性半乳甘露聚糖，以及含有该阳离子改性半乳甘露聚糖的化妆材料组合物，其中半乳甘露聚糖是由豆科植物胡芦巴(学名Trigonellafoenum－graecum)的种子胚乳部分得到的在以甘露糖为结构单元的主链上形成了半乳糖单元侧链且甘露糖与半乳糖的组成比为1∶1的非离子性多糖类。 | ||
| 搜索关键词： | 阳离子 改性 甘露 聚糖 含有 物质 化妆 材料 组合 | ||
【主权项】：
1.含有阳离子改性半乳甘露聚糖的化妆材料组合物，其中阳离子改性半乳甘露聚糖为在非离子性多糖类中，以甘露糖为结构单元的主链上形成了半乳糖单元侧链，甘露糖与半乳糖的组成比为1∶1的半乳甘露聚糖中，该半乳甘露聚糖所含的羟基的一部分被下述化学式(1)所示的含季氮原子的基团取代的阳离子改性多糖类，并且由该含有季氮原子的基团带来的阳离子电荷量为0.1～3.0meq/g，化学式(1)![]()
式中，R1，R2各自为碳原子数为1～3的烷基，R3表示碳原子数为1～24的烷基，X-表示阴离子；n＝0或n＝1～30，当n＝1～30时，(R4O)n为碳原子数为2～4的烯化氧聚合物残基，表示由单一烯化氧形成的聚烷撑二醇链和/或由两种以上的烯化氧形成的聚烷撑二醇链。
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