[发明专利]光波干涉测定装置及光波干涉测定方法有效
申请号: | 200710142639.3 | 申请日: | 2007-08-20 |
公开(公告)号: | CN101126627B | 公开(公告)日: | 2008-02-20 |
发明(设计)人: | 植木伸明 | 申请(专利权)人: | 富士能株式会社 |
主分类号: | G01B9/02 | 分类号: | G01B9/02;G01B11/00;G01M11/02;G01J9/02 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 李香兰 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种光波干涉测定装置及光波干涉测定方法,其中设置:基于来自被检测透镜(1)反射光的第1干涉条纹图像特定被检测透镜(1)的整体中心位置的机构、以被检测透镜(1)和基准球面反射镜(7)的各光轴互相成为平行的方式进行调整的机构、调整被检测透镜(1)和基准球面反射镜(7)的相对位置的机构、根据基于透镜部(2)的透过光的第2干涉条纹图像而调整被检测透镜(1)和基准球面反射镜(7)的相对位置的机构。从而,对于观察不到由来自透镜部表面的反射光产生的光标识的被检测透镜,也可以高精度自动调整该被检测透镜的光轴和基准球面的光轴的偏离,进而能够获得稳定的测定结果。 | ||
搜索关键词: | 光波 干涉 测定 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种光波干涉测定装置,包括:测定用光束照射机构,其对具有透镜部以及从该透镜部的外缘部相对于该透镜部的光轴大致垂直地突出的突出面的被检测透镜,照射测定用光束;被检测体支撑机构,其以与所述测定用光束相面对的方式,且以使该测定用光束照射所述透镜部和所述突出面的至少一部分的方式,支撑所述被检测透镜;基准球面反射机构,其具有基准球面,并在该基准球面中,对透过所述透镜部的所述测定用光束进行反射;干涉机构,其使透过所述透镜部后的所述测定用光束被所述基准球面反射而再透过该透镜部而成的透镜部透过光与参照光相干涉,并且使所述测定用光束被所述被检测透镜反射而成的被检测透镜反射光与参照光相干涉;摄像机构,其对由所述干涉所产生的干涉条纹进行摄像;倾斜姿势可变机构,其使所述被检测透镜和所述基准球面反射机构的相对倾斜姿势变化;以及,3轴方向位置可变机构,其使所述被检测透镜和所述基准球面反射机构的相互垂直的、3轴方向的相对位置改变,其特征在于,还备有:被检测透镜整体中心位置指定机构,其基于由所述被检测透镜反射光和所述参照光的干涉所得到的第1干涉条纹图像,将包含所述突出面的所述被检测透镜整体的中心位置,在图像平面中进行指定;光轴倾斜调整机构,其基于所述第1干涉条纹图像,使用所述倾斜姿势可变机构,以所述被检测透镜的光轴和所述基准球面的光轴接近于互相成为平行的状态的方式,进行该2个光轴的相对的倾斜调整;第1相对位置调整机构,其根据所述被检测透镜整体的中心位置的所述图像平面上的位置信息或与所述2个光轴的相对倾斜调整相伴而产生的所述被检测透镜的移动量信息,使用所述3轴方向位置可变机构,调整所述被检测透镜和所述基准球面的相对位置,以使得透过所述透镜部的所述测定用光束接近于能够大致垂直地入射到所述基准球面的状态;第2相对位置调整机构,其在基于所述光轴倾斜调整机构及所述第1相对位置调整机构的调整后,基于由所述透镜部透过光和所述参照光的干涉所得到的第2干涉条纹图像,使用所述3轴方向位置可变机构,调整所述被检测透镜和所述基准球面的相对位置,以使得透过所述透镜部的所述测定用光束成为能够大致垂直地入射到所述基准球面的状态。
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