[发明专利]半导体晶圆的保持方法及其装置与半导体晶圆保持结构体有效

专利信息
申请号: 200710143269.5 申请日: 2007-08-07
公开(公告)号: CN101123175A 公开(公告)日: 2008-02-13
发明(设计)人: 山本雅之 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00;H01L21/683
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种半导体晶圆的保持方法及其装置、以及半导体晶圆保持结构体,在半导体晶圆的背面外周残留形成有环状凸部,该环状凸部围绕通过背面研磨形成的扁平凹部。将该半导体晶圆的背面侧推压到被粘贴于环框上的支承用粘合带的粘合面上。由此,将环状凸部粘贴到粘合带上,并从粘合带的非粘合面侧推压粘合带而使其变形,从而将粘合带压入粘贴到晶圆背面的扁平凹部。
搜索关键词: 半导体 保持 方法 及其 装置 结构
【主权项】:
1.一种半导体晶圆的保持方法,该方法借助支承用粘合带将半导体晶圆粘贴保持在环框上,其中,上述方法包括以下过程:在上述半导体晶圆的背面外周残留形成有环状凸部,该环状凸部围绕通过背面研磨形成的扁平凹部;将该半导体晶圆的背面侧推压在被粘贴于环框上的粘合带的粘合面上,而将上述环状凸部粘贴到粘合带上,并从粘合带的非粘合面侧推压粘合带而使其变形,从而将粘合带压入粘贴到晶圆背面的上述扁平凹部。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日东电工株式会社,未经日东电工株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710143269.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top