[发明专利]一种对准标记及其形成方法有效
| 申请号： | 200710143399.9 | 申请日： | 2007-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN101373757A | 公开（公告）日： | 2009-02-25 |
| 发明（设计）人： | 石亮;黄清俊;王雪丹;施晓东;武斌 | 申请（专利权）人： | 和舰科技（苏州）有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/544 | 分类号： | H01L23/544;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 | 代理人： | 张春媛 |
| 地址： | 215025江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种对准标记及其形成方法，具体为在一衬底上依次形成场氧化层、栅多晶硅层和金属前介质层，分别在场氧化层、栅多晶硅层和金属前介质层中依次形成相通的沟槽，将垒叠的多层沟槽作为该对准标记。本发明提供的对准标记及其形成方法使得金属前介质层的对准标记的沟槽深度加深，光刻时对准机台获取对准标记的光学信号变得更为容易，解决因对准标记过浅而产生的对准精度下降或无法对准的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 对准 标记 及其 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种对准标记，其特征在于在一衬底上依次形成场氧化层、栅多晶硅层和金属前介质层，分别在场氧化层、栅多晶硅层和金属前介质层中依次形成相通的沟槽，将垒叠的多层沟槽作为该对准标记。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于和舰科技（苏州）有限公司，未经和舰科技（苏州）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200710143399.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：顶夹式印刷电路板电镀侧向遮蔽装置
- 下一篇：一种激光传输装置
