[发明专利]一种顶角带有酸酐基团的倍半硅氧烷的制备方法无效

专利信息
申请号: 200710144154.8 申请日: 2007-12-29
公开(公告)号: CN101220052A 公开(公告)日: 2008-07-16
发明(设计)人: 戴李宗;马莹莹;邓远名;许一婷;陈江枫 申请(专利权)人: 厦门大学
主分类号: C07F7/21 分类号: C07F7/21
代理公司: 厦门南强之路专利事务所 代理人: 陈永秀;马应森
地址: 361005福*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 一种顶角带有酸酐基团的倍半硅氧烷的制备方法,涉及一种化合物的制备方法。提供一种采用“顶角-戴帽”和多步官能团转化法的顶角带有酸酐基团的倍半硅氧烷的制备方法。将三羟基七R基七聚硅氧烷1和三乙胺溶解于四氢呋喃中,加入四氯硅烷,除去三乙胺盐酸盐,除溶剂得产物一氯七R基八聚倍半硅氧烷2,再加入THF/H2O中回流除去溶剂得产物羟基七R基八聚倍半硅氧烷3,并与二甲基一氯硅烷和Et3N混合反应,除去Et3N·HCl,滤液除溶剂后得到的固体溶于THF,THF相过滤除溶剂得二甲基硅烷氧基七R基八聚倍半硅氧烷4,并在甲苯中和酸酐一起溶解催化,除溶剂得沉淀并溶于乙酸和甲苯,回流,滤液除溶剂,干燥即得产品。
搜索关键词: 一种 顶角 带有 酸酐 基团 倍半硅氧烷 制备 方法
【主权项】:
1.一种顶角带有酸酐基团的倍半硅氧烷的制备方法,其特征在于其合成路线如下:其具体步骤如下:1)在干燥的氮气氛围下,将三羟基七R基七聚硅氧烷1和三乙胺溶解于四氢呋喃中,加入四氯硅烷,除去三乙胺盐酸盐,抽真空除溶剂,干燥后收集白色沉淀,得到产物一氯七R基八聚倍半硅氧烷2;按摩尔比,三羟基七R基七聚硅氧烷∶四氯硅烷∶三乙胺为1∶1~2∶3~3.5;2)将一氯七R基八聚倍半硅氧烷2加入THF/H2O中回流搅拌,真空除去溶剂,得到产物羟基七R基八聚倍半硅氧烷3;按体积比,THF与去离子水的体积比是2∶1;3)真空或者氮气保护下,将羟基七R基八聚倍半硅氧烷3、二甲基一氯硅烷和Et3N混合反应,过滤除去Et3N·HCl,滤液抽真空除溶剂后得到的固体溶于THF,再分别用去离子水、HCl、NaCl溶液洗涤,分液后,THF相用MgSO4干燥,过滤,滤液抽真空除去溶剂,得到产物二甲基硅烷氧基七R基八聚倍半硅氧烷4;按摩尔比,羟基七R基八聚倍半硅氧烷∶二甲基一氯硅烷∶三乙胺为1∶1~2∶1~2;4)在氩气保护下,将二甲基硅烷氧基七R基八聚倍半硅氧烷4在甲苯中和酸酐一起溶解,加入0.2mol%Karstedt’s试剂进行催化反应后,抽真空移除溶剂,除去未反应的酸酐,丙酮洗涤后,得到固体沉淀,沉淀物溶于无水乙酸和甲苯,加入活性炭回流,过滤,滤液抽真空除溶剂,干燥得到最终产物带有酸酐基团的二甲基硅烷氧基七R基八聚倍半硅氧烷5;按摩尔比,二甲基硅烷氧基七R基八聚倍半硅氧烷∶∶酸酐为1∶1~1.5。
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