[发明专利]处理基材的设备和方法有效
| 申请号： | 200710145210.X | 申请日： | 2007-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN101131547A | 公开（公告）日： | 2008-02-27 |
| 发明（设计）人： | 金怡政;徐庚进;尹沧老;赵重根 | 申请（专利权）人： | 细美事有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;H05H1/24 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 梁兴龙;武玉琴 |
| 地址： | 韩国忠*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种用于除去基材上的光致抗蚀剂的基材处理设备，其包括：支撑部，用于支撑基材；干式处理部，用于除去基材上的光致抗蚀剂；以及湿式处理部，用于除去基材上的光致抗蚀剂。在基材被支撑部支撑时，借助于干式处理部初次除去基材上的光致抗蚀剂，借助于湿式处理部进行第二次除去。该干式处理部包括用于将等离子体供应到基材上的等离子体供应单元以及改变等离子体供应单元和基材的相对位置的移动单元。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 基材 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于除去基材上的光致抗蚀剂的基材处理设备，所述基材处理设备包括：支撑部，用于支撑所述基材，使得所述基材的图案表面面向上方；干式处理部，用于将等离子体供应到所述基材上，以初次除去所述基材上的光致抗蚀剂；以及湿式处理部，用于将化学品供应到所述基材上，以第二次除去所述基材上的光致抗蚀剂。
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