[发明专利]光刻胶剥离剂组合物无效
| 申请号： | 200710145306.6 | 申请日： | 2007-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN101140428A | 公开（公告）日： | 2008-03-12 |
| 发明（设计）人： | 金圣培;尹锡壹;许舜范;辛成健;金柄郁 | 申请（专利权）人： | 株式会社东进世美肯 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京金信立方知识产权代理有限公司 | 代理人： | 朱梅;徐志明 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种光刻胶剥离剂组合物以及利用该组合物的光刻胶剥离及分解方法，具体说是涉及一种包含氨基甲酸酯化合物的光刻胶剥离剂组合物。而且，本发明还提供一种包含：a)环状内酯类化合物，及b)酰胺类化合物、氨基甲酸酯化合物或其混合物的光刻胶剥离剂组合物。本发明的光刻胶剥离剂组合物，在利用臭氧的工艺中可以选择性地分解去除光刻胶时所产生的光刻胶残留物，从而可极大地提高处理量，并且具有对金属布线或氧化膜的腐蚀防护效果。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 剥离 组合 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶剥离剂组合物，其特征在于：包含氨基甲酸酯化合物。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东进世美肯，未经株式会社东进世美肯许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200710145306.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
