[发明专利]存储单元阵列以及形成该存储单元阵列的方法无效
申请号: | 200710146082.0 | 申请日: | 2007-09-07 |
公开(公告)号: | CN101140935A | 公开(公告)日: | 2008-03-12 |
发明(设计)人: | L·黑内克;M·波普 | 申请(专利权)人: | 奇梦达股份公司 |
主分类号: | H01L27/108 | 分类号: | H01L27/108;H01L23/522;H01L21/8242;H01L21/768 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 章社杲;吴贵明 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明公开了一种具有多个存储单元的存储单元阵列。在一个实施例中,每个存储单元包括存储电容器和存取晶体管、多条定向于第一方向的位线、多条定向于第二方向的字线(第二方向垂直于第一方向)、具有表面的半导体衬底,多个有源区形成在半导体衬底中,每个有源区在第二方向上延伸,存储电容器部分地形成在有源区中且将相应的存储电容器连接于相应的位线,其中每个存取晶体管的栅电极连接于相应的字线,该存储电容器的电容器介电质具有大于8的介电常数,并且字线设置在位线的上方。 | ||
搜索关键词: | 存储 单元 阵列 以及 形成 方法 | ||
【主权项】:
1.一种包括存储单元阵列的集成电路,包括:多个存储单元,每个所述存储单元包括存储电容器和存取晶体管;多条定向于第一方向的位线;多条定向于第二方向的字线,所述第二方向垂直于所述第一方向;具有表面的半导体衬底,多个有源区形成在所述半导体衬底中,每个有源区在所述第二方向上延伸;所述存取晶体管将所述存储电容器中的相对应存储电容器电耦接于相应的所述位线,其中:每个所述存取晶体管的栅电极连接于相应的字线,所述存储电容器的电容器介电质具有大于8的相对介电常数,所述字线设置在所述位线的上方。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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