[发明专利]集成存储单元阵列有效
申请号: | 200710146083.5 | 申请日: | 2007-09-07 |
公开(公告)号: | CN101140936A | 公开(公告)日: | 2008-03-12 |
发明(设计)人: | 罗尔夫·韦兹 | 申请(专利权)人: | 奇梦达股份公司 |
主分类号: | H01L27/108 | 分类号: | H01L27/108;H01L29/78;H01L23/522 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 章社杲;吴贵明 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明涉及一种集成存储单元阵列,其包括:半导体衬底;多个单元晶体管器件,其中,这些单元晶体管器件包括:形成在所述半导体衬底上的柱;围绕所述柱的栅沟槽;在所述柱上部区域形成的第一源极/漏极区;形成在所述栅极沟槽的底部并围绕所述柱的下部区域的栅极介电层;在所述栅极沟槽的所述栅极介电层上形成的栅极,其围绕所述柱的下部区域;以及形成在半导体衬底的上部区域并与所述栅极沟槽邻接的所述第二源极/漏极区;多条位线,被连接至所述单元晶体管器件的第一源极/漏极区的各自第一组;多条字线,连接第二组所述单元晶体管器件的各自的栅极;以及多个单元电容器器件,被连接至所述单元晶体管器件的第二源极/漏极区。 | ||
搜索关键词: | 集成 存储 单元 阵列 | ||
【主权项】:
1.一种集成存储单元阵列,包括:半导体衬底;多个单元晶体管器件,沿所述衬底的多个平行的有源区条形成,所述有源区条在第一方向上延伸并且通过中间绝缘沟槽彼此在侧向绝缘;每一个所述单元晶体管器件包括:在所述半导体衬底中形成的柱;围绕所述柱的栅极沟槽;在所述柱的上部区域形成的第一源极/漏极区;在所述栅极沟槽的底部形成并围绕所述柱的下部区域的栅极介电层;在所述栅极沟槽的所述栅极介电层上形成的栅极,其围绕所述柱的下部区域,以及;所述半导体衬底的上部区域中形成的第二源极/漏极区,其与所述栅极沟槽邻接;多条平行的位线,在第二方向上延伸,并被连接至所述单元晶体管器件的各自的第一源极/漏极区;多条字线,在第三方向上延伸,并连接所述单元晶体管器件的各自栅极;以及多个单元电容器器件,被连接至所述单元晶体管器件的第二源极/漏极区。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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