[发明专利]抛光用组合物以及抛光方法有效
| 申请号： | 200710146854.0 | 申请日： | 2007-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN101130667A | 公开（公告）日： | 2008-02-27 |
| 发明（设计）人： | 野口直人;树神和利;庭野裕 | 申请（专利权）人： | 福吉米股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/304 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 孙秀武;李平英 |
| 地址： | 日本岐阜*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供使用抛光用组合物进行抛光后，抛光对象表面的65nm或以上大小的LPD的数量可降低的抛光用组合物，以及使用该抛光用组合物的抛光方法。本发明的抛光用组合物中，抛光用组合物中的钠离子和乙酸离子其中之一的浓度为10ppb或以下。或者，抛光用组合物中的钠离子和乙酸离子的浓度分别为10ppb或以下。抛光用组合物优选含有羟乙基纤维素等水溶性高分子、氨等碱、以及胶体二氧化硅等磨粒。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 组合 以及 方法 | ||
【主权项】：
1.抛光用组合物，其特征在于：抛光用组合物中的钠离子和乙酸离子其中之一的浓度为10ppb或以下。
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