[发明专利]气化装置和半导体处理系统

摘要

本发明提供一种用于由液体原料得到处理气体的气化装置，该装置包括：气化容器，规定上述气化装置的气化空间；喷射器，安装在上述气化容器中，使上述液体原料呈雾状向上述气化空间内喷出；和加热器，安装在上述气化容器中，对喷出至上述气化空间内的上述液体原料进行加热。气化装置还包括：气体导出路，与上述气化容器连接，使由上述液体原料得到的生成气体从上述气化空间导出；过滤器，配置在上述气体导出路内或上述气体导出路与上述气化空间之间，捕捉上述生成气体中的雾；和红外线照射机构，向上述过滤器照射红外线。

主权项

1.一种用于由液体原料得到处理气体的气化装置，其特征在于，包括：气化容器，规定所述气化装置的气化空间；喷射器，安装在所述气化容器中，使所述液体原料呈雾状向所述气化空间内喷出；加热器，安装在所述气化容器中，对喷出至所述气化空间内的所述液体原料进行加热；气体导出路，与所述气化容器连接，使由所述液体原料得到的生成气体从所述气化空间导出；过滤器，配置在所述气体导出路内或所述气体导出路与所述气化空间之间，捕捉所述生成气体中的雾；和红外线照射机构，向所述过滤器照射红外线。