[发明专利]研磨装置及其定位方法有效
| 申请号： | 200710149274.7 | 申请日： | 2007-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN101125410A | 公开（公告）日： | 2008-02-20 |
| 发明（设计）人： | 储中文;刘昱辰;卢聪林;刘荣其;吴哲耀 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B7/00 | 分类号： | B24B7/00;B24B51/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 赵丽丽 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种研磨装置及其定位方法。研磨装置包括下盘、上盘、摆动检测模块及摆动动力源。上盘对应设置于下盘的上方。摆动检测模块对应上盘设置，以侦测上盘的位置。摆动动力源与上盘电性连接。摆动动力源用以根据上盘的位置控制上盘的摆动。本发明的研磨装置及其定位方法，提供了上盘的定位机制，以使得吸附于上盘的一基板准确地定位，从而使得本发明的研磨装置可与自动化设备结合，降低制造成本并且提升产业竞争力。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 装置 及其 定位 方法 | ||
【主权项】：
1.一种研磨装置，该研磨装置包括：下盘；上盘，该上盘对应设置于该下盘的上方；摆动检测模块，其对应该上盘设置，以侦测该上盘的位置；以及摆动动力源，其与该上盘电性连接，用以根据该上盘的位置控制该上盘的摆动。
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