[发明专利]半导体器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200710151489.2 申请日: 2007-10-24
公开(公告)号: CN101170072A 公开(公告)日: 2008-04-30
发明(设计)人: 町田洋弘;山野孝治 申请(专利权)人: 新光电气工业株式会社
主分类号: H01L21/60 分类号: H01L21/60;H01L21/78;H01L23/485
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 代理人: 顾红霞;张天舒
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明公开一种半导体器件,其特征在于包括以下部件的结构:半导体芯片,其上形成有电极片;凸点,其形成于所述各个电极片上并具有凸出部分;绝缘层,其形成于所述半导体芯片上;以及导电图案,其与所述凸点连接,其中,所述凸出部分的末端插入所述导电图案中,并且所述插入的末端被平坦化。
搜索关键词: 半导体器件 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种用于制造半导体器件的方法,包括:第一步骤,其在电极片上形成具有凸出部分的凸点,所述电极片形成在基板的与半导体芯片对应的区域中;第二步骤,其在所述基板上形成绝缘层和导电层;第三步骤,其挤压所述导电层,从而压制所述导电层上露出的所述凸出部分的末端;第四步骤,其通过电解电镀形成与所述凸点连接的导电图案,在电解电镀过程中,把所述导电层当作供电层;以及第五步骤,其将所述基板分离成单独的小块。
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