[发明专利]垂直磁记录介质有效
申请号: | 200710152990.0 | 申请日: | 2007-10-11 |
公开(公告)号: | CN101162587A | 公开(公告)日: | 2008-04-16 |
发明(设计)人: | 竹野人俊司;酒井泰志 | 申请(专利权)人: | 富士电机电子技术株式会社 |
主分类号: | G11B5/66 | 分类号: | G11B5/66;G11B5/64 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 范征 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种垂直磁记录介质,其中磁记录层中的取向分散降低,晶粒粒径减小,同时非磁性中间层的膜厚度减小,从而性能得到改善,例如噪声降低,S/N比例增加,写入能力提高。该垂直磁记录介质通过在非磁性基板上依次层加以下各层形成:软磁背衬层、第一底层、第一非磁性中间层、第二底层、第二非磁性中间层、磁记录层、保护膜和液体润滑层;所述第一底层包含具有fcc结构且至少包含Ni和Fe的软磁材料,所述第二底层包含具有fcc结构且至少包含Co的软磁材料。 | ||
搜索关键词: | 垂直 记录 介质 | ||
【主权项】:
1.一种垂直磁记录介质,该介质通过在非磁性基板上依次层加以下各层形成:软磁背衬层、第一底层、第一非磁性中间层、第二底层、第二非磁性中间层、磁记录层、保护膜和液体润滑剂层,其中所述第一底层包含具有fcc结构且至少包含Ni和Fe的软磁材料,所述第二底层包含具有fcc结构且至少包含Co的软磁材料。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士电机电子技术株式会社,未经富士电机电子技术株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710152990.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。